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    • 機(jī)器學(xué)習(xí)模型可能會(huì)完善3D納米打印

      機(jī)器學(xué)習(xí)模型可能會(huì)完善3D納米打印

      發(fā)布時(shí)間:2021-02-23

      兩光子光刻(TPL)是一種廣泛使用的3D納米打印技術(shù),該技術(shù)使用激光來創(chuàng)建3D對(duì)象,該技術(shù)在研究應(yīng)用中顯示出了希望,但由于對(duì)大規(guī)模零件生產(chǎn) ...