【上海微電子公司光刻機(jī)最新消息】近日，關(guān)于中國半導(dǎo)體設(shè)備制造商——上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司（簡稱“上海微電子”）在光刻機(jī)領(lǐng)域的最新進(jìn)展引發(fā)了廣泛關(guān)注。作為國內(nèi)唯一具備高端光刻機(jī)研發(fā)能力的企業(yè)，其技術(shù)突破和產(chǎn)品更新對國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展具有重要意義。
根據(jù)公開信息和行業(yè)動態(tài)，上海微電子在2024年持續(xù)推進(jìn)光刻機(jī)技術(shù)的升級與國產(chǎn)化替代進(jìn)程，特別是在中端及部分高端光刻機(jī)領(lǐng)域取得了階段性成果。盡管在極紫外光（EUV）光刻機(jī)方面仍面臨一定技術(shù)挑戰(zhàn)，但其在深紫外線（DUV）光刻機(jī)上的表現(xiàn)已逐步接近國際先進(jìn)水平。
以下為上海微電子光刻機(jī)相關(guān)產(chǎn)品的最新進(jìn)展總結(jié)：
| 項目 | 最新進(jìn)展 |
| 光刻機(jī)類型 | DUV（深紫外線）光刻機(jī)、EUV（極紫外光）光刻機(jī)（研發(fā)中） |
| 技術(shù)節(jié)點(diǎn) | 支持90nm至14nm制程（部分型號） |
| 國產(chǎn)化率 | 提升至80%以上（關(guān)鍵零部件逐步實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)替代） |
| 市場應(yīng)用 | 主要用于中低端芯片制造及顯示面板領(lǐng)域 |
| 研發(fā)投入 | 2024年研發(fā)投入同比增長約30% |
| 合作伙伴 | 與多家國內(nèi)半導(dǎo)體企業(yè)及科研機(jī)構(gòu)建立合作機(jī)制 |
| 出口情況 | 受國際政策影響，出口受限，主要面向國內(nèi)市場 |
從整體來看，上海微電子在光刻機(jī)領(lǐng)域的持續(xù)投入和技術(shù)積累，為我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的自主可控提供了有力支撐。未來，隨著技術(shù)瓶頸的逐步突破，其在高端光刻機(jī)市場的競爭力有望進(jìn)一步增強(qiáng)。
總體而言，上海微電子的光刻機(jī)發(fā)展不僅關(guān)乎企業(yè)的自身成長，更關(guān)系到整個中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的技術(shù)安全和發(fā)展?jié)摿Α?/p>